文|《投资者网》吴微

2026年上半年，A股半导体板块最为瞩目的明星企业，拓荆科技（688072.SH）无疑是其中之一。短短半年时间内，拓荆科技股价的累计涨幅就超过了150%，市值从2025年底的不足千亿一路跃升。截止停牌前，拓荆科技的公司市值已突破2300亿元大关。但这场资本市场狂欢的背后，不仅是公司业绩的高速增长，更源于拓荆科技关键资本动作的落地。2026年6月22日，拓荆科技以576.01元/股的高溢价完成了近46亿元的定增。

图片来源：公司公告

值得注意的是，在拓荆科技资金落袋仅4天后的6月26日晚间，公司又宣布停牌，筹划通过发行股份及支付现金的方式购买无锡尚积半导体科技股份有限公司（下称“无锡尚积”）的控股权。拓荆科技这一雷厉风行的收购动作，或意在补齐拓荆科技在物理气相沉积（PVD）及刻蚀（Etch）领域的业务短板，推动公司从单一薄膜设备商向对标国际巨头的“全品类平台”跨越。

半导体突围的典范：定增补血与平台化野心

资料显示，拓荆科技成立于2010年，由海外归国专家团队在沈阳创立，设立初衷即是打破海外厂商在薄膜沉积设备领域的长期垄断。在治理结构上，虽然公司呈现出“无实控人+多级国资+顶级专家”的特征；但国家集成电路产业投资基金（大基金）及其关联方却长期为拓荆科技的前三大股东，中科院系资本及地方产投也深度参与其中，因此拓荆科技拥有较强的国资属性。

经过十余年的技术攻坚，拓荆科技已确立了国产薄膜沉积设备的龙头地位。公司在等离子体增强化学气相沉积（PECVD）市场占有率稳居国内第一，并成功攻克了原子层沉积（ALD）和亚大气压化学气相沉积（SACVD）技术，产品也已进入7nm及以下先进工艺节点。

当前，拓荆科技的设备不仅成为中芯国际（688981.SH）、华虹公司（688347.SH）等头部晶圆厂的首选，更打破了泛林集团等国际巨头的壁垒。

在强基本面支撑下，近期，拓荆科技还迎来了资本与业务的“戴维斯双击”。2026年一季度，公司在手订单突破110亿元，年化营收规模成功跨过了70至80亿元的门槛。在这一背景下，拓荆科技推进的46亿元定增吸引了12家核心机构参与，其中大基金三期认购8.5亿元，易方达基金与瑞银集团（UBS）等国内外顶级机构也纷纷入局。

据拓荆科技规划，这笔巨额资金主要用于前沿技术研发中心、高端设备产业化基地及补充流动资金，及为公司后续的行业并购提供了充裕的弹药支撑。

标的公司的成色：无锡尚积的资本局与核心资产

作为此次并购的核心标的，无锡尚积也同样成色十足。资料显示，无锡尚积成立于2021年，坐落于江苏无锡高新区，是一家专注于半导体专用设备研发的高新技术企业。

在此次被并购之前，无锡尚积已是国内功率半导体及特色工艺薄膜沉积/刻蚀设备细分行业的“隐形冠军”。与拓荆科技擅长的CVD/ALD技术形成完美互补，无锡尚积的核心竞争力主要集中在工艺要求极高的PVD（物理气相沉积）和ETCH（干法刻蚀）技术上，相关设备成功满足了国内特色工艺、第三代半导体等领域高质量薄膜生长的需求。

公开资料显示，无锡尚积300mm（12寸）规格设备此前已顺利交付国内头部晶圆厂并实现量产验证。

与拓荆科技国资持股、专业团队管理类似，无锡尚积也呈现“专业团队创业+地方国资助推+下游龙头战投”的典型特征。在股权安排上，无锡尚积由创始人王世宽及联合创始人夏小军等领衔的核心团队掌握主要股权。

同时，在2025年密集完成的总计超5亿元融资中，无锡尚积成功引入了中国中车旗下中车资本、江苏战新母基金、广州产投及无锡高新区创投等众多重量级国资与知名机构股东。

根据2026年6月最新启动的收购意向公告，拓荆科技拟通过“发行股份及支付现金”的方式收购无锡尚积的控股权并募集配套资金。目前该交易尚处于筹划阶段，标的资产的最终估值定价以及“股份+现金”的具体支付比例将由交易各方在审计评估完成后另行签署正式协议予以确定。

若此次交易顺利落地，拓荆科技将把这家优质设备商彻底纳入麾下，完成向综合性平台型设备巨头迈进的关键一步。

交易的底层逻辑：顺势而为与国资共赢

在当前IPO趋紧，市场偏好AI企业的情况下，从事功率半导体业务的无锡尚积最终放弃独立IPO而选择被并购，或是政策导向、资本效率与产业发展规律共同作用的结果。

首先，随着近年来IPO审核标准的实质性提高，监管层对“硬科技”企业的盈利能力、现金流及成长性与稀缺性提出了更高的要求。无锡尚积虽技术领先，但在高强度的研发投入期，公司独立上市面临较长的时间成本与不确定性。同时，监管层大力鼓励科技型企业通过并购重组做大做强。被两千亿市值的拓荆科技收购，无疑为无锡尚积背后的创投机构提供了一条确定性极高的退出通道。

其次，拓荆科技通过收购扩充赛道，这也是半导体设备行业迈向“平台化”的必然选择。面对先进制程研发的“军备竞赛”，下游晶圆大厂更倾向于选择能够提供一站式整体解决方案的设备供应商。

拓荆科技的优势在于前道逻辑与存储芯片的CVD（化学气相沉积）及ALD工艺，而无锡尚积则在功率半导体、特色工艺的PVD（物理气相沉积）及干法刻蚀（ETCH）上具备差异化壁垒。两者的结合，将使拓荆科技实现“薄膜沉积（CVD+ALD+PVD）+刻蚀”的深度覆盖，这不仅消除了潜在的公司间竞争，更令拓荆科技有实力在更广阔的市场中与应用材料等国际巨头正面抗衡。

最后，从国有资产管理的视角来看，这也是一场国有资本的深度融合与共赢。无锡尚积背后的多级地方国资与产业基金，能通过此次换股交易，将其持有的股权转化为拓荆科技这一“国家队”上市平台的流动性资产。依托拓荆科技在二级市场的估值溢价，地方国资不仅有效实现了资产的保值增值，更顺应了国家关于做强做优战略性新兴产业的宏观导向。而原本分散的产业资源得以在国家级平台上聚拢，真正实现了从“地方扶持”到“国家级产业舰队”的战略跃升。